Bei Membranprozessen wie beispielsweise der Mikro-, Ultra- oder Nanofiltration besteht ein generelles Problem darin, dass sich während der Membrantrennung auf der Membranoberfläche leistungsmindernde Membranbeläge ausbil­den, die zu einer Erhöhung der Betriebskosten führen.

Mögliche Ursachen der Belagbildung auf der Membranoberfläche sind Konzentrationspolarisation, Scaling und das Foulingpoten­zial der Membran. Diese Beläge, die auch als Deckschicht bezeichnet werden, bewirken, dass bereits nach kurzer Zeit der Filtrat­strom bzw. trans­membrane Fluss durch die Membran sinkt.

Um diese Erscheinung zu kompensieren werden entsprechend dem Stand der Technik beispielsweise verdrillbare Membranmo­dule, rotie­rende Membranscheiben oder die Querstromfiltration (cross-flow filtration) angewandt.

Kennzeichnend für Hochleistungsmembransysteme ist die Anwendung von DTE Strömungsinitiatoren mit bewegten Behälterwän­den, durch deren Schwingungseintrag lokal begrenzt im Membranelement eine hohe Überströmgeschwindigkeit erzeugt wird um die Ausbildung von Membranbelägen auf der Membranoberfläche einzuschränken bzw. zu unterbinden.

Die Vorteile dieser Technologie sind:

• Verringerung der Betriebskosten
• Erhöhung der Membranstandzeit
• Verkleinerung von Membransystemen bei vergleichbarer Kapazität
• Geringere Aufstellflächen für Membransysteme
• Senkung der Gesamtanlagen- bzw. Investitionskosten
• Neue Möglichkeiten der technischen Reaktionsführung in Membran- und Bioreakto­ren, Fermentern oder Blasensäulenre­aktoren